东莞气氛炉生产厂家

炉门密封：水冷却套、硅橡胶密封。真空气氛烧结炉采用进口保温材料，高纯度氧化铝多晶纤维。温度由双铂铑热电偶和铝智能温度控制器708P控制。该炉可通过氮气，氩气等惰性气体保护物料免受氧化和脱碳，具有平衡的温度场，快速的升温和冷却，高效节能，外观精美，实用的特点。广泛用于烧结，还原惰性气体。高校实验室，科研院所以及工矿企业。额定温度分别为1100℃、1400℃、1500℃、1650℃，根据不同的气氛，不同的温度，使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造。本系列设备的成套供应范围有温度控制器、计、减压阀、热电偶、补偿导线等。温度控制采用可控硅控制，40段PlD可编程温度自动控制，具有**温报警等保护功能，严格控制产品的烧制过程。均匀气氛+节能+均匀的炉温。选择气氛：抽真空。
密封系统：炉门、炉**采用高温硅橡胶密封，用户可选择炉门配备水冷系统。炉膛有进气口、出气口可以通氩气、氮气等气体，可抽真空。箱式气氛炉结构复杂由炉体、加热室、真空室、温控系统、密封系统、真空系统等组成。外观采用耐高温、耐腐蚀油漆处理。炉门采用加厚、加固处理，防止变形。可观性强，为实验室产品。炉门开启采用铰链联接，炉门密封采用耐高温硅胶圈真空密封。控温仪表采用智能数显仪表，双LED显示，控温精度高，操作方便。电炉带有PID自整定功能，具有**温报警断电加热功能，可无人值守。电线全部接好，货到只需插电就可使用，操作简单。控温方式采用可控硅控温，精度高无声响，满足实验室要求。气氛保护炉，又称气氛炉，由马弗炉演化而成。主要的目的是在高温烧结的情况通入某种特定气体用于特殊热处理，或者对热处理的样品进行保护防止氧化。

炉型也有箱式、立式、卧式、管式、升降式多种。气路可按需要配置各种阀门、计、压力表等、可以检测控制气体的各种物理量。该电炉主要应随时检查气路的密封情况，保证气路流畅且密封达到相应要求。气氛炉的特点是在某一既定温度下，向炉内同入一定成分的人工制备气氛，以达到某种热处理的目的，如气体渗碳，碳氮共渗及光亮淬火，退火，正火等。为了控制炉内的气氛，维持炉内的压力，炉内工作空间始终要与外界空气隔绝，尽量避免漏气和空气，故要求炉壳，砌体，炉门及所有外界连接零件如风扇，热电偶，辐射管，推拉料机等采用密封装置；为了维持炉内的一定碳势，除了控制气氛成分的稳定性外，还要对炉内气氛进行自动控制。因此，需要设有各种控制仪表，以便对炉内气氛连续或定期测定并调整炉内的供气量。为了保证气氛的稳定性，气氛炉可分为马弗炉和无马弗炉两种。

安全可靠，符合国家标准。箱式气氛炉配备RS-485通讯接口，数据管理软件，具有无纸记录历史数据和升温曲线，校正温度偏离误差的功能，可以管理多台设备和远程故障诊断分析。气氛炉，炉膛尺寸除常规外，还有各种定做规格。更能贴近您的实验需要。额定温度有1100℃，1400℃，1600℃，1800℃，使用电阻丝，硅碳棒，硅钼棒为加热元件，型号齐全，安全可靠。同时也可为满足不同实验要求而特殊定做。适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结，玻璃的精密退火与微晶化，晶体的精密退火，陶瓷釉料制备，粉末冶金，纳米材料的烧结，金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理。是科研单位，高等院校，工矿实验和生产设备。定期检查各接线头接触是否良好。根据工艺设定温度，通电加温、保温。通过调查和控制出水口温度在40℃cgh。

即关闭全部阀门，此工艺应经工艺试验，由熟练工人掌握。气氛烧结炉采用先进技术。自行研制开发的耐高温，高性能的节能新型气氛炉，采用高纯多孔氧化钼材料，经*特工艺构建炉膛，并采用多段智能程序控制器全过程自动控制温度，综合性能指标高，处于国内外较高水平。为了控制周围环境对烧结制品的影响并调整烧结制品成分，氧化性气氛，包括纯氧、空气、水蒸气等，用于贵金属的烧结，氧化物弥散强化材料和某些含氧化物质点电接触材料的内氧化烧结以及预氧化活化烧结。还原性气氛，包括氢、分解氨、煤气、转换天然气等，用于烧结时还原被氧化的金属及保护金属不被氧化，广泛用于铜、铁、钨、钼等合金制品的烧结中。惰性或中性气氛，包括氮、氩、氦及真空等。渗碳气氛，即CO，CH4及其他碳氢化合物的气体，对于铁及低碳钢具有渗碳作用。渗氮气氛。
移相触发，可控硅控制组装成一套与电炉匹配的智能电器，具有使用寿命长，耐冲压，安全，无噪音等，告别老式继电器电路。温度类别：800度-1200度，1400度，1600度，气氛箱式炉应用于适合各类大专院校实验室、工矿企业化验室，供化学分析、物理测定，以及金属、陶瓷的烧结和熔解、小型钢件等加热、焙烧、烘干、热处理用。产品名称：箱式气氛保护实验炉。用途：用于材料的气氛(氮气)烧结实验。1．额定温度：1350℃。2．常用温度:1300℃。3．炉膛尺寸：400×300×300mm（L×W×H）。4．有效工作尺寸：300×260×260mm（L×W×H）。5．加热方式：左右加热。6．温度仪表：可编程序控制(40段程序)。7．控制方式：可控硅移相调压。8．炉温稳定度：±1℃（以仪表显示为准）。9．均匀性：在有效工作尺寸内±5℃。
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