炉门密封：水冷却套、硅橡胶密封。真空气氛烧结炉采用进口保温材料，高纯度氧化铝多晶纤维。温度由双铂铑热电偶和铝智能温度控制器708P控制。该炉可通过氮气，氩气等惰性气体保护物料免受氧化和脱碳，具有平衡的温度场，快速的升温和冷却，节能，外观精美，实用的特点。广泛用于烧结，还原惰性气体。高校实验室，科研院所以及工矿企业。额定温度分别为1100℃、1400℃、1500℃、1650℃，根据不同的气氛，不同的温度，使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而制造。本系列设备的成套供应范围有温度控制器、计、减压阀、热电偶、补偿导线等。温度控制采用可控硅控制，40段PlD可编程温度自动控制，具有**温报警等保护功能，严格控制产品的烧制过程。均匀气氛+节能+均匀的炉温。选择气氛：抽真空。
实验气氛炉是奥菲达仪器专为学校实验室精心研制的气氛炉，产品具有合理的结构，升温快，操作简便等特点，实验气氛炉掺钼铁铬铝合金电阻丝为加热元件，采用真空成型工艺技术生产的进口无机纤维作为炉膛的保温材料和的绝热设计。炉体采用双层炉壳结构，高性能隔热材料，并配有冷却风扇，使炉体外表面温度低,比普通窑炉节能60%。炉门、炉**采用高温硅橡胶密封，炉门配备水冷系统。可预抽真空并可通入多种惰性气体。实验气氛炉适用于高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、新材料开发、**物质灰化、质量检测和小型钢件等加热、焙烧、热处理之用，也适用于、电子、、特种材料等生产和实验。真空气氛炉以硅碳棒为加热元件，炉体采用双层炉壳结构，双层风冷系统，可以快速升降温，炉壳表面温度低；炉门、炉**采用高温硅橡胶密封。

密封系统：炉门、炉**采用高温硅橡胶密封，用户可选择炉门配备水冷系统。炉膛有进气口、口可以通氩气、氮气等气体，可抽真空。箱式气氛炉结构复杂由炉体、加热室、真空室、温控系统、密封系统、真空系统等组成。外观采用耐高温、耐腐蚀油漆处理。炉门采用加厚、加固处理，防止变形。可观性强，为实验室产品。炉门开启采用铰链联接，炉门密封采用耐高温硅胶圈真空密封。控温仪表采用智能数显仪表，双LED显示，控温精度高，操作方便。电炉带有PID自整定功能，具有**温报警断电加热功能，可无人值守。电线全部接好，货到只需插电就可使用，操作简单。控温方式采用可控硅控温，精度高无声响，满足实验室要求。气氛保护炉，又称气氛炉，由马弗炉演化而成。主要的目的是在高温烧结的情况通入某种特定气体用于热处理，或者对热处理的样品进行保护防止氧化。

安全可靠，符合国家标准。箱式气氛炉配备RS-485通讯接口，数据管理软件，具有无纸记录历史数据和升温曲线，校正温度偏离误差的功能，可以管理多台设备和远程故障诊断分析。气氛炉，炉膛尺寸除常规外，还有各种定做规格。更能贴近您的实验需要。额定温度有1100℃，1400℃，1600℃，1800℃，使用电阻丝，硅碳棒，硅钼棒为加热元件，型号齐全，安全可靠。同时也可为满足不同实验要求而定做。适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结，玻璃的精密退火与微晶化，晶体的精密退火，陶瓷釉料制备，粉末冶金，纳米材料的烧结，金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理。是科研单位，高等院校，工矿实验和生产设备。定期检查各接线头接触是否良好。根据工艺设定温度，通电加温、保温。通过调查和控制出水口温度在40℃cgh。

倍数大等优点。温度区域，可选气氛，真空炉类型等。高温炉用于实验室分析，工矿企业，科研单位对金属零件进行元素分析，测量和热处理。高温炉还可以用于金属的高温加热，陶瓷烧结，熔融和分析。1.一次使用高温炉或长期关闭时，需要烘干。烤箱应在室温下于200°C保持4小时。在200°C至600°C下保持4小时。使用时，炉温不得**过额定温度，以免烧毁加热元件。禁止向炉内注入各种液体和可溶性金属。马弗炉的工作温度低于50°C的高温，此时炉子寿命长。2.高温炉和控制器须在相对湿度不**过85的条件下工作，并且没有导电粉尘，性气体或腐蚀性气体。当需要加热诸如油脂的金属材料时，大量的挥发性气体会影响并腐蚀电加热元件的表面，从而破坏并缩短寿命。因此，加热时应及时防止和密封或正确打开和取出。3.控制器应限制在0-40°C的环境温度范围内使用。
移相触发，可控硅控制组装成一套与电炉匹配的智能电器，具有使用寿命长，耐冲压，安全，无噪音等，告别老式继电器电路。温度类别：800度-1200度，1400度，1600度，气氛箱式炉应用于适合各类大专院校实验室、工矿企业化验室，供化学分析、物理测定，以及金属、陶瓷的烧结和熔解、小型钢件等加热、焙烧、烘干、热处理用。产品名称：箱式气氛保护实验炉。用途：用于材料的气氛(氮气)烧结实验。1．额定温度：1350℃。2．常用温度:1300℃。3．炉膛尺寸：400×300×300mm（L×W×H）。4．有效工作尺寸：300×260×260mm（L×W×H）。5．加热方式：左右加热。6．温度仪表：可编程序控制(40段程序)。7．控制方式：可控硅移相调压。8．炉温稳定度：±1℃（以仪表显示为准）。9．均匀性：在有效工作尺寸内±5℃。
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