参数1200度1400度1600度1700度
型号AFDZ
电源AC380V
使用温度使用温度
可长期使用温度低于额定温度50度
控制范围为50至额定温度
测温元件K、S、B型热电偶
发热元件装位置两侧（采用硅碳棒加热）
控温精度±1度（集成化电路控制，无**调现象）
炉温均匀性±1度（根据炉膛尺寸大小而定，大型炉膛可采用多点控制，从而达到更好的炉温均匀性）
升温速率升温速率可自由调节
发热元件硅碳棒、硅钼棒。
也适用于、电子、、特种材料等生产和实验。以硅碳棒为加热元件，炉体采用双层炉壳结构，双层风冷系统，可以快速升降温，炉壳表面温度低；炉门、炉**采用高温硅橡胶密封，炉门配备水冷系统。炉体上有进气口、口、抽真空口。炉膛材料采用的进口氧化铝多晶纤维真空吸附制成，节能50%，加热元件采用硅碳棒。电炉温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能，该控制系统温度显示精度为1℃，温场稳定度±5℃，升温速率1~20℃可任意置。可以通氢气、氩气、氮气等其他气体，并能预抽真空，真氛压力可以达到0.1Mpa,炉体采用厚钢板加工而成，安全可靠，符合国家标准。AFD-ALZ系列实验气氛炉广泛应用于实验室、工矿企业、科研单位的前期实验，还原气氛、惰性气氛、氢氮混合气氛等多种类型。
是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结的理想产品。该高温气氛炉以电阻丝，硅碳棒，硅钼棒为加热元件，采用双层不锈钢壳体结构和宇电30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用进口氧化铝材料，双层炉壳间配有风冷系统。炉体采用整体密封，炉门采用高温硅胶密封，气体经过计后由炉罐进入，并有多处进气口，可以通氢气、氮气等气体，并能抽真空。本设备主要为大专院校、工矿企业等实验和批量生产提供惰性气体等条件，具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高等特点。综合性能指标较高，处于国内ling先水平。根据不同的使用气氛及使用温度，使用不同的加热元件，型号齐全，对需在惰性气体或还原性气体环境下烧结的材料，本设备是一个非常好的选择，同时也可满足于不同工艺实验而制造。
气氛压力极限值0.1MPa，采用*特的密封技术，可长时间保压，安全性能好，操作方便。AFDZ1400系列气氛炉以硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用1600型氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫并通有水冷系统，气体经过计后由后膛进出，有多处洗炉膛进气口、口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。AFD系列气氛炉广泛应用于实验室、工矿企业、科研单位的前期实验，还原气氛、惰性气氛、氢氮混合气氛等多种类型，额定温度分别为1100℃、1300℃、1500℃、1600℃、1700℃。
炉门配备水冷系统。炉体上有进气口、口、抽真空口。炉膛材料采用的进口氧化铝多晶纤维真空吸附制成，节能50%，加热元件采用硅碳棒。电炉温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能，该控制系统温度显示精度为1℃，温场稳定度±5℃，升温速率1~20℃可任意置。可以通氢气、氩气、氮气等其他气体，并能预抽真空，真氛压力可以达到0.1Mpa,炉体采用厚钢板加工而成，安全可靠，符合国家标准。真空气氛炉满足于不同工艺实验而制造，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，采用特种设计技术，具有操作安全、方便、真空度好。
即关闭全部阀门，此工艺应经工艺试验，由熟练工人掌握。气氛烧结炉采用技术。自行研制开发的耐高温，高性能的节能新型气氛炉，采用高纯多孔氧化钼材料，经*特工艺构建炉膛，并采用多段智能程序控制器全过程自动控制温度，综合性能指标高，处于国内外较高水平。为了控制周围环境对烧结制品的影响并调整烧结制品成分，氧化性气氛，包括纯氧、空气、水蒸气等，用于贵金属的烧结，氧化物弥散强化材料和某些含氧化物质点电接触材料的内氧化烧结以及预氧化活化烧结。还原性气氛，包括氢、分解氨、煤气、转换天然气等，用于烧结时还原被氧化的金属及保护金属不被氧化，广泛用于铜、铁、钨、钼等合金制品的烧结中。惰性或中性气氛，包括氮、氩、氦及真空等。渗碳气氛，即CO，CH4及其他碳氢化合物的气体，对于铁及低碳钢具有渗碳作用。渗氮气氛。
移相触发，可控硅控制组装成一套与电炉匹配的智能电器，具有使用寿命长，耐冲压，安全，无噪音等，告别老式继电器电路。温度类别：800度-1200度，1400度，1600度，气氛箱式炉应用于适合各类大专院校实验室、工矿企业化验室，供化学分析、物理测定，以及金属、陶瓷的烧结和熔解、小型钢件等加热、焙烧、烘干、热处理用。产品名称：箱式气氛保护实验炉。用途：用于材料的气氛(氮气)烧结实验。1．额定温度：1350℃。2．常用温度:1300℃。3．炉膛尺寸：400×300×300mm（L×W×H）。4．有效工作尺寸：300×260×260mm（L×W×H）。5．加热方式：左右加热。6．温度仪表：可编程序控制(40段程序)。7．控制方式：可控硅移相调压。8．炉温稳定度：±1℃（以仪表显示为准）。9．均匀性：在有效工作尺寸内±5℃。
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