以硅碳棒为加热元件，炉体采用双层炉壳结构，双层风冷系统，可以快速升降温，炉壳表面温度低；炉门、炉**采用高温硅橡胶密封，炉门配备水冷系统。炉体上有进气口、口、抽真空口。炉膛材料采用的进口氧化铝多晶纤维真空吸附制成，节能50%，加热元件采用硅碳棒。电炉温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能，该控制系统温度显示精度为1℃，温场稳定度±5℃，升温速率1~20℃可任意置。箱式气氛炉结构复杂由炉体、加热室、真空室、温控系统、密封系统、真空系统等组成。外观采用耐高温、耐腐蚀油漆处理。炉门采用加厚、加固处理，防止变形。可观性强，为实验室产品。炉门开启采用铰链联接，炉门密封采用耐高温硅胶圈真空密封。控温仪表采用智能数显仪表，双LED显示。
倍数大等优点。温度区域，可选气氛，真空炉类型等。高温炉用于实验室分析，工矿企业，科研单位对金属零件进行元素分析，测量和热处理。高温炉还可以用于金属的高温加热，陶瓷烧结，熔融和分析。1.一次使用高温炉或长期关闭时，需要烘干。烤箱应在室温下于200°C保持4小时。在200°C至600°C下保持4小时。使用时，炉温不得**过额定温度，以免烧毁加热元件。禁止向炉内注入各种液体和可溶性金属。马弗炉的工作温度低于50°C的高温，此时炉子寿命长。2.高温炉和控制器须在相对湿度不**过85的条件下工作，并且没有导电粉尘，性气体或腐蚀性气体。当需要加热诸如油脂的金属材料时，大量的挥发性气体会影响并腐蚀电加热元件的表面，从而破坏并缩短寿命。因此，加热时应及时防止和密封或正确打开和取出。3.控制器应限制在0-40°C的环境温度范围内使用。

炉体上有进气口、口、抽真空口。根据要求，制成双层水冷炉壳，保护密封硅胶垫圈的同时，加快冷却速度。炉门密封采用20mm厚线切割法兰，镶嵌O型硅胶圈，不锈钢手轮锁紧。选配大屏幕无纸记录仪，实现对升温曲线的实时记录，主要用于陶瓷烧成、真空冶炼、电真空零件除气、退火、金属件的钎焊，以及陶瓷-金属封接等。真空炉即在炉腔这一特定空间内利用真空系统（由真空泵、真空测量装置、真空阀门等元件经过精心组装而成）将炉腔内部分物质排出，使炉腔内压强小于一个标准大气压，炉腔内空间从而实现真空状态；1.采用10mm冷轧板，经过数控等设备机床精密加工而成，外表面经过高温处理，2.的风冷双层炉体结构，炉壳之间装有风机，可以快速升降温，开门方式：可180度侧开，方便在高温状态下取料；电器：采用国标电器。

分布合理，温场均匀性好，可抽真空，真空度可达0.05mPa以下，炉膛采用进口氧化铝多晶纤维材料，保温性能好，耐用，拉伸强度高，无杂球，纯度高，节能效果明显优于国内纤维材料。炉体采用密封式焊接，并做煤油渗漏检查。炉内胆与炉盖采用高温硅胶垫密封。炉门板通过螺栓与水冷套面板压紧，炉体后部设一进气口，以不锈钢针阀和炉体右边的浮子计控制进气量。炉体前端的水冷套部设有排气管，用于排除炉内废气。排气管上装有球阀，可控制排气量大小。水冷套下部有一进水管，上部有一出水管，并有一口和进气口。炉体的下部，左部、右部安装有进气管和阀门，供用气体洗炉膛用。车间须配备1/2管以水源后力达0.2MPa。通过调查和控制出水口温度在40℃cgh。定期检查各接线头接触是否良好。根据工艺设定温度。
即NH。以及对于某些合金系而言的N2。对于不同合金，上述分类可以有变化。
烧结温度高：蕞高使用温度：1870℃，安全使用通度：1850℃。炉膛材料：高纯多孔氧化铝陶瓷材料，该炉膛具有绕结环境纯净，长时间使用不掉渣，等优良特性，底部进出烧结物。温度，控制性能高：可编程满足20-50段连续控温和恒温要求。PID自整定功能，手动/自动无干扰切换功能，具有温度补偿，**温报警功能。炉温均匀：保温效果好、重量轻、节能等，较同类绕结炉功率降低40%。可在氢气、氩气、氮气等气氛下实现常压烧结，也可预抽真空，炉体采用国家标准不锈纲加工而成，安全可靠。清洁完传送带后设备无法开启，传送带张紧压轮有没有关闭。进口和出口处的紧急停止开关被按下，拔出紧急停止开关即可解除机械锁定。设备下方有一移动的驱动钥匙开关被关闭。

是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结的理想产品。该高温气氛炉以电阻丝，硅碳棒，硅钼棒为加热元件，采用双层不锈钢壳体结构和宇电30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用进口氧化铝材料，双层炉壳间配有风冷系统。炉体采用整体密封，炉门采用高温硅胶密封，气体经过计后由炉罐进入，并有多处进气口，可以通氢气、氮气等气体，并能抽真空。本设备主要为大专院校、工矿企业等实验和批量生产提供惰性气体等条件，具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高等特点。综合性能指标较高，处于国内ling先水平。根据不同的使用气氛及使用温度，使用不同的加热元件，型号齐全，对需在惰性气体或还原性气体环境下烧结的材料，本设备是一个非常好的选择，同时也可满足于不同工艺实验而制造。
移相触发，可控硅控制组装成一套与电炉匹配的智能电器，具有使用寿命长，耐冲压，安全，无噪音等，告别老式继电器电路。温度类别：800度-1200度，1400度，1600度，气氛箱式炉应用于适合各类大专院校实验室、工矿企业化验室，供化学分析、物理测定，以及金属、陶瓷的烧结和熔解、小型钢件等加热、焙烧、烘干、热处理用。产品名称：箱式气氛保护实验炉。用途：用于材料的气氛(氮气)烧结实验。1．额定温度：1350℃。2．常用温度:1300℃。3．炉膛尺寸：400×300×300mm（L×W×H）。4．有效工作尺寸：300×260×260mm（L×W×H）。5．加热方式：左右加热。6．温度仪表：可编程序控制(40段程序)。7．控制方式：可控硅移相调压。8．炉温稳定度：±1℃（以仪表显示为准）。9．均匀性：在有效工作尺寸内±5℃。
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