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产品详情:
AFD1200-50 1200℃迷你型真空气氛管式炉 采用双层壳体结构,炉膛材料采用高纯氧化铝,壳体两边安装有铝制散热器使得法兰温度小于80℃,内炉膛表面涂有1750℃进口氧化铝涂层材料提高反射率及炉膛洁净度。
适用范围:
主要应用于院校实验室、工矿企业实验室,应用于高、中、低温CVD工艺,如碳纳米管的研制,晶体硅基板镀膜,金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
技术参数:
产品名称 | 1200℃迷你型真空气氛管式炉 |
产品型号 | AFD1200-50 |
炉管尺寸 | Φ50*600mm 更多尺寸可供选择 |
温区长度 | 200mm 更多尺寸可供选择 |
恒温区长 | 100mm 更多尺寸可供选择 |
炉膛材料 | 高纯氧化铝纤维 |
ZUI高工作温度 | 1200 ℃ |
正常工作温度 | ≤1100 ℃ |
温 控 | 采用PID方式调节,可设置30段升降温程序 |
加热速率 | 0~20 ℃ / 分 |
11111加热元件 | 掺钼铁铬铝电阻丝 |
工作电压 | AC 208-240单相, 50/60 Hz |
ZUI大功率 | 2.5KW |
真空密封系统 | 炉管两端采用KF法兰进行密封,密封圈为硅胶密封圈 |
温度测试元件 | K型热电偶测温 |
净 重 | 35 Kg |
炉 管 | 石英管 |