AFD—50—17 真空管式高温炉以进口硅钼棒为发热元件，额定温度1700℃，采用B型双铂铑热电偶测温和宇电温控仪自动控温，具有较高的控温精度（±1℃）。此外该炉具有真空装置，可在多种气氛下工作，大大提高了其使用范围。该炉具有使用温度高、高精度控温、等优点。炉管材质采用优质耐高温的刚玉管，专门设计用于精密机械零件热处理、纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、化工材料、陶瓷电容器气氛烧结、真空烧结等。管式炉采用高铝纤维制品隔热、保温，优质刚玉管炉膛,日本进口单回路智能32段（40段）程序温度控制仪控制，PID参数自整定，精确实现温度的控制。设备具有温度均匀、控制稳定、升温速度快、节能环保、使用温度高、寿命长、发热件更换方便、操作简单、维修方便等特点，是理想的科研设备，其性能达到国外同类产品的标准。

1. 温度1000℃,1200℃。
2. 采用真空成型工艺技术，电炉丝镶嵌在陶瓷纤维炉膛的内表面，一次成型的炉膛内胆，防止受到挥发物的污染，特殊的绝热设计，炉壳外表面温度低。
3. 电炉丝设置在炉膛内的周围，特殊的炉丝表面处理防腐技术。
4. 炉管采用氧化铝炉管（1000℃），可选择刚玉炉管。
5. 可控硅控制，PID参数自整定功能，手动/自动无干扰切换功能，可编程30个时段,可满足连续恒温和控温要求。具有开门自动断电保护设计，具有**高温报警功能，具有内置参数密码控制功能。
6. 升温速度为10-30℃/min，升温速度快，空炉能耗小，节能50％以上。
7. 控温精度高，显示精度±1℃;冲温值小于3℃，温度均匀性±6℃。
8. 多种安全防护设计，安全性能好，使用寿命长
9. 外形设计，结构简单，美观大方。

AFD系列立式管式气氛炉的*特设计能够实现在真空或气氛保护条件下对样品快速升降温，四面加热，温场更均匀，立式结构使得气体排放更加顺畅，炉体垂直安装在可移动支架上有利于炉管取放温度的均匀性，可以预抽真空并能通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，特别适合薄膜生长、电极测试、氧化物晶体生长、快速退火等实验需要！

管式炉以电加热，采用双层壳体结构,智能化程序控温系统，可控硅控制，控温精度高；双层炉壳间风冷系统，有效降低炉壳表面温度；结合我司真空、氮气系统、混气系统、真空通氮系统。（选配）
主要功能和特点：
1、内置石英管或陶瓷管；
2、控制系统采用PID方式控制，控温仪表中可以设置多段升降温程序；
3、真空系列炉型：采用KF快速法兰密封，只需要一个卡箍就能完成法兰的连接；氮气系列炉型为纤维堵头。
4、炉盖可打开，可以实时观察烧结的物料状况，并能迅速降温，满足材料骤冷骤热的实验需要；
5、炉膛采用进口氧化铝多晶纤维材料，保温性能好，耐用，拉伸强度高，无杂球，纯度高，节能优于国内纤维材料；
6、加热元件采用内嵌式高电阻优质合金丝硅碳棒，硅钼棒，经久耐用，。
7、真空系列炉型，预留了真空、气路快速接口，可配合我司真空系统、混气系统使用；
8、选配：485转换接口，可通过我司软件，与计算机互联，可实现单台或者多台电炉的远程控制、实时追踪、历史记录、输出报表等功能；可安装无纸记录装置，实现数据的存储、输出。
9、**温报并断电，操作安全可靠。

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