AFD-A1700-12气氛还原炉以硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用1700型氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫并通有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进出，有多处洗炉膛进气口、出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。

1700℃真空气氛箱式炉，主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可应用于金属材料、石墨材料、锂电材料、晶体材料等新材料领域。
二、 产品描述
AFD系列产品主要针对实验室的日常应用开发，优质的炉膛材料和稳定的温度控制系统，可保证实验数据的可靠性；产品采用新型陶瓷纤维材料作为炉膛材料，选用质优的硅钼棒发热元件作为发热体，温度控制器采用微电脑PID控制模块，可实现精确的控温和恒温要求。

产品特点
1、 炉膛材料选用真空成型氧化铝陶瓷纤维材料，新型拼装结构，节能50%以上
2、 发热体采用硅钼棒，可承受负荷大，稳定且使用寿命长
3、 控温精度高，冲温小，具有温度补偿和温度校正功能，精度为±1℃
4、 采用进口控温仪表，具有程序功能，可设定升温曲线，可编30个程序段
5、 一体式结构，可减少使用空间，出色的外观设计，美观、大方
6、 电子元器件均采用**厂家产品，带有漏电保护功能，安全可靠
7、 双层水冷外壳，炉表面温度≤50℃
8、 本机对工作过程中的**温会发出报警信号，并自动完成保护动作
9、 当仪表程序设定完成后，只要按下运行按钮，接下来的工作会自动完成
10、双炉门设计结构，法兰密封，PTFE密封圈，可保证密封性，可在真空下工作也可通入惰性保护气体，可外接金属管道，使炉内高温挥发的有毒有害气体排放到*位置
11、选配大屏幕无纸记录仪，实现对升温曲线的实时记录，并带有存储卡可对实验数据进行分析和打印

AFD系列箱式气氛炉适用于高校，科研院所，工矿企业做气氛保护烧结，气氛还原的理想设备。具有温场均匀，升降温速度快，节能，可通入多种气体等特点
技术参数：
加热区域：深200*宽150*高150mm
工作温度：1300℃
高温度：1400℃
大真空度：-0.1Mpa
密封方式：硅胶垫
可通气氛：所有惰性气体，氮气、氩气、二氧化碳、水蒸气
升温速率：≤20℃/Min
控温精度：±1℃
加热元件：硅碳棒
热电偶：S型
工作电压：220V 50HZ
功率：2KW
真空泵：VP180

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