AFD系列立式管式气氛炉的特设计能够实现在真空或气氛保护条件下对样品快速升降温，四面加热，温场更均匀，立式结构使得气体排放更加顺畅，炉体垂直安装在可移动支架上有利于炉管取放温度的均匀性，可以预抽真空并能通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，特别适合薄膜生长、电极测试、氧化物晶体生长、快速退火等实验需要！

工艺成熟;炉型结构简单；操作容易，便于控制，能连续生产乙烯、丙烯收率较高，产物浓度高；动力消耗少，热效率高；裂解气和烟道气的大部分可以设法回收；原料的适用范围随着裂解技术的进步而日渐扩大；可以多炉组合而大型生产。
操作方式：
  针对实验室的使用要求，装卸料采用间歇式手动装、卸料。装料时将料盒放置在料盆支架上，打开并取出炉管一端的密封端盖，放入带料盒的料盒支架，再将密封端盖安装在炉管法兰上并拧紧卡箍螺栓。然后通入工艺气氛，直到炉管内氧含量达到工艺要求时进行升温烧结。产品烧结工艺完成后，应继续通人小量的工艺气氛并进行降温，直到炉内温度低于工艺要求时，方可打开
管式炉按炉型分为：立式炉、圆筒炉、大型方炉；
按用途分为：化学反应炉、加热液体的炉子、气体加热炉、加热混合相流的炉子。
管式炉分：
1、真空管式炉、气氛管式炉
2、普通管式炉、旋转管式炉、多工位管式炉
3、分体管式炉、一体管式炉、立式管式炉、卧式管式炉
4、单温区管式炉、双温区管式炉、三温区(多温区)管式炉

AFD系列管式炉以进口高温电阻丝、硅碳棒、硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和宇电32段程序控温系统，可控硅控制，炉膛采用进口氧化铝多晶体纤维材料，能快速升温，可通气氛和抽真空。温场均衡性高、表面温度低、升降温速率快、节能等优点。有单管、双管、卧式、可开启式、立式、单温区、多温区等多种管式炉型。主要应用于大专院校，科研院所，工矿企业等实验和小批量生产之用。

AFD—50—17 真空管式高温炉以进口硅钼棒为发热元件，额定温度1700℃，采用B型双铂铑热电偶测温和宇电温控仪自动控温，具有较高的控温精度（±1℃）。此外该炉具有真空装置，可在多种气氛下工作，大大提高了其使用范围。该炉具有使用温度高、高精度控温、等优点。炉管材质采用耐高温的刚玉管，设计用于精密机械零件热处理、纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、化工材料、陶瓷电容器气氛烧结、真空烧结等。管式炉采用高铝纤维制品隔热、保温，刚玉管炉膛,日本进口单回路智能32段（40段）程序温度控制仪控制，PID参数自整定，实现温度的控制。设备具有温度均匀、控制稳定、升温速度快、节能环保、使用温度高、寿命长、发热件更换方便、操作简单、维修方便等特点，是理想的科研设备，其性能达到国外同类产品的标准。
http://normanbell.b2b168.com