AFD系列立式管式气氛炉的特设计能够实现在真空或气氛保护条件下对样品快速升降温，四面加热，温场更均匀，立式结构使得气体排放更加顺畅，炉体垂直安装在可移动支架上有利于炉管取放温度的均匀性，可以预抽真空并能通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，特别适合薄膜生长、电极测试、氧化物晶体生长、快速退火等实验需要！

AFD-1400-60三温区真空气氛管式炉以硅碳棒为发热元件；双层风冷结构；高纯氧化铝纤维真空吸附一次成型；高密度硅碳棒真空挤压成型；刚玉管外径为60、80mm。三个温区分别由三个立的温控系统来控制且都为PID30段程序化控温。可通过调节三个温区的控温程序使炉管内温场形成一温度梯度，炉管两端装有不锈钢法兰，不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表，抽真空时真空度能够达到10-3 Pa,此系列真空气氛管式炉可以用CVD或PVD方法来生长纳米材料和制作各种薄膜。

小型立式管式炉是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行烧结﹑熔化﹑分析而研制的理想设备。气体可从炉管下端通入，通过多孔石英板使样品颗粒悬浮在加热区域，进行沉积实验。

1. *温度1600℃，1700℃
2. 采用型双炉膛结构，的炉**搭建技术，既有升温速度快，又有**高温不塌陷，高温不掉灰的特点；采用真空成型工艺技术生产的无机纤维作为炉膛的保温材料和的绝热设计。
3. MoSi2棒设置在炉膛内的两侧，更换方便。
4. 炉体为双层碳钢外壳，空气循环隔热，外表面温度低。
5. 可控硅控制，变压器调节，PID参数自整定功能，手动/自动无干扰切换功能，**高温报警功能，具有温度补偿和温度校正功能。可选配开门断电功能，具有内置参数密码功能。
6. 升温速度为5-15℃/min,升温速度快，空炉能耗小，节能50%以上。
7. 控温精度高，显示精度±1℃，冲温值小于3℃，温度均匀性±6℃
8. 多种安全防护设计，安全性好，使用寿命长。
9. 外观设计，结构简单，美观大方。
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