也适用于、电子、、特种材料等生产和实验。以硅碳棒为加热元件，炉体采用双层炉壳结构，双层风冷系统，可以快速升降温，炉壳表面温度低；炉门、炉**采用高温硅橡胶密封，炉门配备水冷系统。炉体上有进气口、口、抽真空口。炉膛材料采用的进口氧化铝多晶纤维真空吸附制成，节能50%，加热元件采用硅碳棒。电炉温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能，该控制系统温度显示精度为1℃，温场稳定度±5℃，升温速率1~20℃可任意置。可以通氢气、氩气、氮气等其他气体，并能预抽真空，真氛压力可以达到0.1Mpa,炉体采用厚钢板加工而成，安全可靠，符合国家标准。AFD-ALZ系列实验气氛炉广泛应用于实验室、工矿企业、科研单位的前期实验，还原气氛、惰性气氛、氢氮混合气氛等多种类型。
密封箱式多用炉生产线适应于大批量生产，如汽车行业等。国内厂家更是紧贴用户要求，针对性推出各种价格适中、款式多样、性能优越的可控箱式气氛炉。大都能做到工艺参数的优化、预测和控制碳浓度的分布，获得理想的浓度分布和渗层组织；可实现计算机管理，具有简单的菜单设计，友好的人机界面。今天气氛炉为大家总结了可控气氛分类：可控气氛主要有吸热式气、放热式气、氮基气氛、氨分解气、滴注分解气、氢和木炭气。在发生器中，把天然气、液化石油气等气体与一定比例的空气混合（当空气量较少时，混合气体先部分燃烧），再通过加热到高温（1000℃以上）的催化剂，使混合气体的未燃部分热裂解（吸热反应）而制得。吸热式气是一种应用广的可控气氛。把它作为运载气体，将适量的富化气（甲烷或丙烷）带入加热炉内，就可以使低碳钢件表面渗碳，使碳含量达到规定的要求。

密封性好，真空保持时间长。该气氛炉可充入高压气体，气氛压力极限值0.1MPa，采用特的密封技术，可长时间保压，安全性能好，操作方便。采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制。炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速对温控系统降温。气氛炉采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫、并通有水冷系统。气体经过计后由后膛进出，有多处洗炉膛进气口、口处有燃烧嘴。可以通氩气、氢气、氧气、氮气、一氧化碳、氨分解气等气体。该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院机构、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。密封系统双层炉壳真空，炉门采用高温硅橡胶密封。炉膛有进气口、口可以通氩气、氮气等气体。

实验气氛炉是奥菲达仪器专为学校实验室精心研制的气氛炉，产品具有合理的结构，升温快，操作简便等特点，实验气氛炉掺钼铁铬铝合金电阻丝为加热元件，采用真空成型工艺技术生产的进口无机纤维作为炉膛的保温材料和的绝热设计。炉体采用双层炉壳结构，高性能隔热材料，并配有冷却风扇，使炉体外表面温度低,比普通窑炉节能60%。炉门、炉**采用高温硅橡胶密封，炉门配备水冷系统。可预抽真空并可通入多种惰性气体。实验气氛炉适用于高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、新材料开发、**物质灰化、质量检测和小型钢件等加热、焙烧、热处理之用，也适用于、电子、、特种材料等生产和实验。真空气氛炉以硅碳棒为加热元件，炉体采用双层炉壳结构，双层风冷系统，可以快速升降温，炉壳表面温度低；炉门、炉**采用高温硅橡胶密封。

控温精度高，操作方便。电炉带有PID自整定功能，具有**温报警断电加热功能，可无人值守。电线全部接好，货到只需插电就可使用，操作简单。控温方式采用可控硅控温，精度高无声响，满足实验室要求。气氛保护炉，又称气氛炉，由马弗炉演化而成。主要的目的是在高温烧结的情况通入某种特定气体用于热处理，或者对热处理的样品进行保护防止氧化。市场上使用气氛保护多以防止氧化为主。根据炉膛的不同，可以分为管式气氛炉和箱式气氛炉。其中，管式气氛炉，根据温度不同，低温采用石英管高温采用刚玉管为炉管，两端配以法兰密封；箱式气氛炉，多为整体焊接箱体，内衬无机保温材料，立炉门硅胶密封。气氛保护炉上通常都会有以下装置，进管道，阀门，压力显示装置，真空获得装置。该炉是针对产品需要气氛保护面设计的炉型。炉膛你可以通惰性气体、氢气、氮气、也可抽成真空。
移相触发，可控硅控制组装成一套与电炉匹配的智能电器，具有使用寿命长，耐冲压，安全，无噪音等，告别老式继电器电路。温度类别：800度-1200度，1400度，1600度，气氛箱式炉应用于适合各类大专院校实验室、工矿企业化验室，供化学分析、物理测定，以及金属、陶瓷的烧结和熔解、小型钢件等加热、焙烧、烘干、热处理用。产品名称：箱式气氛保护实验炉。用途：用于材料的气氛(氮气)烧结实验。1．额定温度：1350℃。2．常用温度:1300℃。3．炉膛尺寸：400×300×300mm（L×W×H）。4．有效工作尺寸：300×260×260mm（L×W×H）。5．加热方式：左右加热。6．温度仪表：可编程序控制(40段程序)。7．控制方式：可控硅移相调压。8．炉温稳定度：±1℃（以仪表显示为准）。9．均匀性：在有效工作尺寸内±5℃。
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