AFD1200-50 1200℃迷你型真空气氛管式炉 采用双层壳体结构，炉膛材料采用高纯氧化铝，壳体两边安装有铝制散热器使得法兰温度小于80℃，内炉膛表面涂有1750℃进口氧化铝涂层材料提高反射率及炉膛洁净度。
适用范围：
主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。

AFD-1400-60三温区真空气氛管式炉以硅碳棒为发热元件；双层风冷结构；高纯氧化铝纤维真空吸附一次成型；高密度硅碳棒真空挤压成型；刚玉管外径为60、80mm。三个温区分别由三个立的温控系统来控制且都为PID30段程序化控温。可通过调节三个温区的控温程序使炉管内温场形成一温度梯度，炉管两端装有不锈钢法兰，不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表，抽真空时真空度能够达到10-3 Pa,此系列真空气氛管式炉可以用CVD或PVD方法来生长纳米材料和制作各种薄膜。

设备型号：AFD—50—17
高温度： 1700℃     
工作温度： 1650℃
加热区长度：300mm
恒温区: 150 mm
温度均匀性： ±1℃
炉管实际尺寸：  Φ50（外径）×1000mm  （刚玉管）
炉膛材料：  莫来石纤维制品
控制温区个数：  1个，B分度热偶
控温精度： ≦±1℃，单回路智能32段（40段）程序仪表控制，PID参数自整定
加热元件：  硅碳棒加热
大加热功率：  6Kw        
空炉保温功率：约3Kw
建议升温速率：   3℃～10℃/min
输入动力电源：  三相电源，50HZ ，380V±10%；6KW
炉体表面温升：  ≤60℃。
尺寸: 550 x 380 x 520 mm
净重: 80 Kg
保修期: 整机保修一年，相关耗材除外

管式电炉产品描述
1.1本款管式炉以硅碳棒、硅钼棒或者电阻丝为加热元件，温度一般在1200度以上采用刚玉管。（注：1200度以下也可使用）
1.2采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，
1.3炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。
1.4采用技术，有单管、双管、卧式、可开启式、立式、单温区、双温区、三温区等多种管式炉型。
1.5具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、温区多、可选配气氛、抽真空炉型等。
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